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- [发明专利]用于具有回热的工艺气体设备的压缩机系统以及用于二氧化碳气体分离的工艺气体设备-CN201080016196.3无效
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大卫·热策
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西门子公司
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2010-03-31
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2012-07-11
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F25J1/00
- 用于具有回热的工艺气体设备的根据本发明的压缩机系统,具有:用于压缩潮湿的工艺气体的压缩机,其具有至少一个压缩机级;和工艺气体冷却单元,其用于冷却工艺气体而连接在压缩机级的下游并且具有通过冷却介质驱动的至少一个第一工艺气体冷却装置和第二工艺气体冷却装置,其中工艺气体冷却装置分别具有单独的、被施加以工艺气体的工艺气体冷却装置罩(工艺气体冷却装置罩具有安置在其中的、被施加以冷却介质的工艺气体冷却装置集合),在工艺气体侧直接相继连接以及可以通过冷却介质驱动并且设计为使得在工艺气体侧在上游设置的工艺气体冷却装置可以从工艺气体导散预先确定的热流,由此工艺气体在工艺气体冷却装置之间的热力学状态位于露点线的区域中并且可以借助在工艺气体侧下游设置的工艺气体冷却装置冷却到预先确定的温度。露点线理解为在工艺气体的压力-焓图内的如下线,该线标记工艺气体的其中在工艺气体中湿气凝结的热力学状态。
- 用于具有工艺气体设备压缩机系统以及二氧化碳气体分离
- [实用新型]一种连续式原子层沉积设备-CN202222067672.7有效
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田玉峰
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厦门韫茂科技有限公司
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2022-08-08
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2023-01-17
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C23C16/455
- 其中,这种连续式原子层沉积设备包含用以放置基体的载盘装置、进料装置、取料装置、至少两个工艺装置和至少一个中转装置。中转装置的数量比工艺装置的数量少一个,且工艺装置和中转装置间隔设置。进料装置接合于第一个工艺装置。取料装置接合于最后一个工艺装置。工艺装置包括设置有工艺腔的工艺箱体。进料装置构造为用以将载盘装置移入第一个工艺腔。取料装置构造为用以将最后一个工艺腔内的载盘装置移出。中转装置包括设置有中转腔的中转箱体,以及配置于中转腔体的中转构件。中转箱体构造为将载盘组件从一个工艺腔移动至另一个工艺腔。
- 一种连续原子沉积设备
- [发明专利]高氨氮高有机物玉米深加工废水的处理装置-CN201611040852.9有效
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姚宏;左陆珅;杨黎俊
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北京交通大学
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2016-11-11
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2020-04-28
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C02F3/30
- 本发明提供了一种高氨氮高有机物玉米深加工废水的处理方法和装置。该装置包括:依次连接的高负荷曝气池工艺装置、一体式厌氧氨氧化工艺装置和OAO工艺装置,每个工艺装置中都设置有沉淀池和污泥回流系统;废水进入高负荷曝气池,高负荷曝气池的出水进入一体式厌氧氨氧化工艺装置,废水在一体式厌氧氨氧化工艺装置中进行脱氮处理,一体式厌氧氨氧化工艺装置的出水进入OAO工艺装置,OAO工艺装置进行有机物和氮的深度去除,OAO工艺装置输出处理后的废水。本发明将厌氧氨氧化引入玉米深加工废水处理工艺,利用厌氧氨氧化菌作为厌氧氨氧化工艺主体,有效结合多种污水处理工艺,通过格栅、调节和多介质过滤器高效去除废水中的悬浮物。
- 高氨氮高有机物玉米深加工废水处理装置
- [发明专利]高温蚀刻工艺槽-CN201210270325.2有效
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耿彪
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耿彪
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2012-07-31
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2012-12-26
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H01L21/67
- 本发明涉及一种半导体LED芯片制作装置。本发明公开了一种高温蚀刻工艺槽,包括槽盖、防腐外壳、保温隔热层、加热装置、抑制气体挥发装置、降温装置、工艺槽本体、连接供液装置,所述槽盖位于工艺槽本体顶部,保温隔热层位于防腐外壳内,工艺槽本体位于保温隔热层与工艺槽之间,加热装置设置在工艺槽本体底部,抑制气体挥发装置固定在工艺槽本体的上部,降温装置固定在工艺槽本体内壁,连接供液装置从工艺槽本体顶部插入到工艺槽本体内。本发明耐高温,防腐蚀,抑制腐蚀气体挥发,减少工艺槽内药液损耗,能控制药液升温时间及药液温度的均匀性,能降温排放药液。
- 高温蚀刻工艺
- [实用新型]高温蚀刻工艺槽-CN201220376750.5有效
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耿彪
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耿彪
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2012-07-31
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2013-01-30
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H01L21/67
- 本实用新型涉及一种半导体LED芯片制作装置。本实用新型公开了一种高温蚀刻工艺槽,包括槽盖、防腐外壳、保温隔热层、加热装置、抑制气体挥发装置、降温装置、工艺槽本体、连接供液装置,所述槽盖位于工艺槽本体顶部,保温隔热层位于防腐外壳内,工艺槽本体位于保温隔热层与工艺槽之间,加热装置设置在工艺槽本体底部,抑制气体挥发装置固定在工艺槽本体的上部,降温装置固定在工艺槽本体内壁,连接供液装置从工艺槽本体顶部插入到工艺槽本体内。本实用新型耐高温,防腐蚀,抑制腐蚀气体挥发,减少工艺槽内药液损耗,能控制药液升温时间及药液温度的均匀性,能降温排放药液。
- 高温蚀刻工艺
- [发明专利]生产系统-CN201510430268.3有效
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仓田茂
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日本电产三协株式会社
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2015-07-21
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2018-03-30
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G05B19/05
- 在生产系统(1)中,多个主工艺号存储于主机(8),每一个处理装置(4至7)对处理对象物(2)的处理条件、即多个装置工艺与用于识别多个装置工艺的装置工艺号对应并被存储于处理装置(4至7)中的每一个当中,在中继机(9)中存储有对应表,所述对应表规定分别与多个主工艺号对应的处理装置(4至7)各自的装置工艺号。处理装置(4至7)将主工艺号发送到中继机(9),并从中继机(9)接收与该主工艺号对应的装置工艺号,并利用与已收到的装置工艺号对应的装置工艺,对处理对象物(2)实施处理。
- 生产系统
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